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臭氧發(fā)生器

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半導(dǎo)體清洗設(shè)備-MTK臭氧水生成器介紹

MTK臭氧水生成器的特征

■臭氧水濃度高(很大30ppm)

■臭氧水中無金屬雜質(zhì)

半導(dǎo)體,液晶,太陽能電池等潔凈規(guī)格(臭氧水生成部由氟素樹脂材料組成)

■臭氧濃度上升快,達(dá)到臭氧很大濃度僅需大約1分鐘

■生成器體積小。長400mm。寬550mm。高820mm(標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格)

■與其他公司產(chǎn)品相比價(jià)格低廉

使用臭氧水清洗的優(yōu)點(diǎn)

①減少化學(xué)藥品的使用

a) 半導(dǎo)體用化學(xué)藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW),但是SC1 和SC2是相對(duì)較貴,并且需在60-100 ℃的高溫條件下發(fā)生作用,難以使用。而近年,臭氧水作為可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式, 受到廣泛關(guān)注。因?yàn)閮H僅是將純凈水通過臭氧水生成器,便可以簡單地產(chǎn)生臭氧,因此可大大降低運(yùn)營成本。

b) 使用臭氧水進(jìn)行清洗處理后,臭氧成分便迅速蒸發(fā),因此廢水處理也十分容易。


②出色的清洗能力(顆粒, 金屬污染物,有機(jī)物質(zhì))

因?yàn)槌粞鯎碛袃H次于氟素的氧化還原能力,其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很難氧化的碳化硅或氮化鎵基板也十分有效。(兩者作為半導(dǎo)體材料受到廣泛關(guān)注)

臭氧水發(fā)生器參數(shù)

臭氧生成方式:無聲放電法

將臭氧氣體溶解于純凈水的方法:噴射方式

臭氧水中臭氧的濃度監(jiān)測:紫外吸收法

臭氧水濃度:30ppm

臭氧水流量:50L /min

設(shè)備尺寸:寬度400mm 深度550mm 高度850毫米

重量:20 ~ 100Kg

消耗功率:~3KW

氧氣壓力:為0.1MPa(供給為0.3MPa)

氧氣純度:99.5%(指定)

氧氣消耗量:~16L/min.

供應(yīng)純凈水的壓力:0.20Mpa以上(理想值0.25MPa)

供應(yīng)純凈水的溫度:低于25℃

臭氧氣體生成部的冷卻水溫度:理想值為20℃以下。如無法實(shí)現(xiàn),需根據(jù)情況增加冷卻器(可選)。

CO2氣體消耗量: 

臭氧濃度過高時(shí)需通過純凈水行注入:


使用臭氧水生成裝置的用途

?半導(dǎo)體(清洗)

?FPD,液晶(清洗)

?MEMS,傳感器(清潔)

?硬盤(清洗)

?太陽能電池(清潔)

?醫(yī)療(洗手,純凈水管道清洗)

?食品(洗手,消毒,除臭) 


安裝現(xiàn)場

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