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您的位置: > 主頁 > 臭氧課堂 光伏產(chǎn)業(yè)中抗pid臭氧發(fā)生器制備氧化硅工藝

光伏產(chǎn)業(yè)中抗pid臭氧發(fā)生器制備氧化硅工藝

光伏產(chǎn)業(yè)中抗pid臭氧發(fā)生器制備氧化硅工藝

抗PID晶體硅太陽能電池的制備方法,該抗PID晶體硅太陽能電池在硅基片和氮化硅之間制備一層氧化硅,從而抗PID的效果,所述氧化硅使用臭氧氧化工藝制備而成。
所述臭氧氧化工藝包括步驟:
1)提供一經(jīng)過擴(kuò)散處理后的硅基片;
2)對(duì)所述硅基片進(jìn)行清洗;
3)將所述硅基片至臭氧臭氧中,使硅基片的擴(kuò)散面在臭氧中氧化,直至該氧化作用自然停止,得到所需的氧化硅層。
 
硅基片清洗包括:使用HF溶液清洗去除所述硅基片表面的磷硅玻璃層,所述HF溶液的體積濃度為2?8%,清洗溫度為10 ?30°C,清洗時(shí)間為10?200s。
所述臭氧由臭氧發(fā)生器提供,該臭氧的濃度為5?100ppm。氧化動(dòng)作所需的處理時(shí)間為3s?60min,溫度為15?25°C,得到的所述氧化娃層的厚度為0.6?2nm。
 
步驟2)和步驟3)之間的間隔時(shí)間小于30min。
所述臭氧氧化工藝之后,還包括步驟4):在氧化硅層表面沉積氮化硅層。所述氮化硅層的厚度在80?90nm之間。
 
所述步驟3)和步驟4)之間的間隔時(shí)間小于30min,或者當(dāng)所述步驟3)和步驟4)之間的間隔時(shí)間超過30min時(shí),對(duì)所述硅基片實(shí)施一清洗動(dòng)作,以去除表面的自然氧化層。
 
該步驟基于蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司2014-04-03提交的《一種抗pid晶體硅太陽能電池制作方法》
 
北京同林提供光伏行業(yè)抗PID用的臭氧發(fā)生器,歡迎咨詢!

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